“刻蚀技术可以分为两类,一是使用
态化学品的
法刻蚀,让硅片在
酸
碱的泡澡淋浴中定量减
。”
“二是使用气
等离
的
法刻蚀,让硅片在化学气
的离
轰击
局
瘦
。”
“其中
法刻蚀的技能早就被人类
亮,比如中世纪的欧洲人,会用酸
溶
,在金属盔甲上蚀刻雕
。”
“明代的《格古要论》中也有记载:凡刀剑
,打磨光净,用金丝矾矾之,其
纹则见。”
“明朝人说的金丝矾就是一
硫酸盐,因此当历史
集成电路的时代,工程师们首先想到的也是利用各
酸碱的腐蚀
,来大规模地刻
芯片,制程工艺中的刻蚀之名,由此产生。”
“刻蚀中有三个关键指标:刻蚀速率,选择比和方向
。”
“其中刻蚀速率指的是
质被溶解的速度,通常用每分钟损失多少微米的厚度来计量。”
“在芯片制程中,一个
位的刻蚀
度,通常是用刻蚀时
来控制的,因此保证一个
确且恒定的刻蚀速率非常重要,而这对于刻蚀
的纯度,
比,和
度变化的要求很
。”
“基于化学反应的
法刻蚀,只能尽量减少横向刻蚀,完全的各向异
它
不到。”
“在芯片制程的早期,
件结构比较
糙,线宽间距也够大,刻蚀方向
差一
,问题还不大。”
“但随着制程
次微米级,
法刻蚀就跟不上芯片的
度要求了,逻辑电路自然不用说,关键层需要纳米级的
密刻蚀,即便像dra之类相对
糙的存储芯片,要刻
里面又窄又
的电容沟槽,也需要方向
极
的雕刻方法,这就是
法刻蚀。”
“
法用的是
,
法用的则是气
,芯片厂每天消耗很多特
气
,其中很大一
分就用于刻蚀。”
“这些气
在
确
比后,被通
反应腔
,再用电容或电
耦合的方式,让气
完全或
分电离,形成等离
或离
束,经过电场加速,
向硅片
行刻蚀,这是一
兼
理与化学属
的雕刻方式。”
“主
的芯片制程中,超过90%的芯片刻蚀都是
法,因为它的方向
好,气
比和
频电源也能实现更
密的调控。”
“至于缺
,抛开技术的复杂度不谈,主要有两个,一个是贵,一个是慢。”
“一台
刻蚀机的价格,数百万
元,那比光刻机是便宜多了,但是不同介质的刻蚀,需要买不同的刻蚀机。”
“而且工艺中,刻蚀的时
远超光刻,毕竟人家是用光来刻嘛。”
“因此产线上一台光刻机,要
多台刻蚀机,
照设备总成本来计算,两者的开销差不多。”
“相比光刻机对光线的
确控制,蚀刻机更多的是需要对气
行
确控制,两者的
度要求虽然差不多,但是生产难度却是完全不同的。”
“光刻机里
,光学系统的加工难度是非常
的,特别是里面的镜片,国
还真是很难找到符合要求的厂家。”
“你找蔡司购买的话,人家不一定会卖给你跟阿斯麦一个
平的产品。”
“但是蚀刻机的话,我们不需要这么复杂的东西,只要设备设计的足够
妙,零件的加工
度可以符合要求,就有希望生产
能够加工7纳米的蚀刻机
来。”
尹志
解释了一大顿,曹
听懂了一
分。
不过他不担心!
原本没有南山集团帮忙,中微半导
都能很快的突破各
蚀刻机技术,最终5纳
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