重生99zuo汽车jutou 第1336节(1/3)

利和东瀛的光刻胶企业的好日，要彻底的一去不复返了。

“我们自己的光刻胶的能跟jsr等公司的同类型产品行了对比没有？”

虽然曹对自己亲自参与研究的euv光刻胶的能很有信心，但是的测试工作还是赖远鸿他们在主导。

所以肯定也还是要问清楚一的。

免得到时候南山半导使用的过程当中现一些问题的话，损失就非常的大了。

“我们的灵度稍微比jsr的低一些，但是对比度比它们的要。”

“抗刻蚀比方面跟它们的基本上是一个平，曝光宽容度也是基本相当，但是还有提升空间。”

赖远鸿一就把主要的几个能指标的况给介绍了一。

灵度是衡量曝光速度的指标。

光刻胶的灵度越，所需的曝光剂量越小。

南山化学生产的euv光刻胶的灵度虽然略低于jsr，但是不影响使用，无非就是要多消耗一光刻胶而已。

而对比度直接影响到胶的分辨能力。

光刻胶从曝光区到非曝光区过渡的陡度，对比度越好，形成图形的侧越陡峭，分辨率越好。

南山化学在这方面的能，显然是很不错的。

至于抗刻蚀比，这一能通常是以刻蚀胶的速度与刻蚀衬底材料的速度之比来表示的，又称之为选择比。

举个例，如果某一光刻胶与硅的抗刻蚀比为10，这表明当刻蚀硅的速度为1μ／时，光刻胶的刻蚀速度只有100n／。

抗刻蚀比的低也决定了需要多厚的胶层才能实现对衬底一定度的刻蚀。

而曝光宽容度，南山化学一上来就能到跟jsr差不多的平，也是非常不容易的。

这个指标有什么意义呢？

光刻时使用的曝光剂量偏离了最佳曝光剂量，仍能获得较好的图形，说明这款光刻胶有较大的曝光宽容度。

正常况，光刻胶拥有一个最佳的曝光剂量，在光刻时，应该使整个晶圆包表面的曝光剂量一致，且尽可能接近最佳曝光剂量。

但是实际生产过程中，由于受外界环境的影响必然会有剂量的偏差。

曝光宽容度大的胶受曝光能量浮动或不均匀的影响较小，更适合生产需求。

所以这个指标好，对于南山半导来说是很有意义的。

要不然你的光刻胶对工艺的要求很的话，就会导致良品率变低，生产成本变。

“这么说来，我们的euv光刻胶生产来之后，立就可以开始取代jsr等厂家的同类产品了？”

这个问题是曹最关注的问题。

毕竟作为老板，肯定是要看重结果的。

在结果好的况，再去关注过程。

否则的话没有好结果，什么都是没有意义的。

“是的，其他的指标，不是动还是膨胀能，还是粘度和保质期都是不比人家要差。”

“到时候我们可以形成全系列的芯片生产用光刻胶的生产，让光刻胶慢慢的退华夏市场。”

“一步甚至还可以一步的开发晶显示屏用光刻胶等其他类型的光刻胶，让我们的生产线的产能可以充分的利用起来。”

不少产品华夏不是

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